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日本ULVAC愛發(fā)科半導體灰化裝置NA系列
簡要描述：

日本ULVAC愛發(fā)Luminous NA-8000科半導體灰化裝置NA系列
日本ULVAC愛發(fā)科半導體灰化裝置NA系列

  • 產品型號：Luminous NA-8000
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-11-25
  • 訪  問  量：201

詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導體灰化裝置NA系列

日本ULVAC愛發(fā)科半導體灰化裝置NA系列


灰化裝置LuminousNA系列

Luminous NA 系列是一款不受晶圓尺寸限制的灰化系統(tǒng)，可以處理從關鍵的下一代晶圓工藝到晶圓級安裝工藝的各種工藝。


特征

  • 可以執(zhí)行關鍵的下一代晶圓工藝所需的1×10 16原子/cm 2或更高的無損傷離子注入剝離工藝和聚合物去除工藝。

  • 腔室配置適合氟基氣體添加工藝，使其無顆粒。因此，可以構建從普通PR到離子注入剝離、有機膜剝離（PI、DFR等）剝離、氧化膜蝕刻等廣泛的工藝。

  • 采用簡單的設備配置，同時實現(xiàn)了“出色的可維護性和可靠性"和“低成本"。

  • 可以實現(xiàn)靈活的腔室配置（μwave、RIE、μwave + RIE），并且可以選擇多種傳輸路線。

  • 晶圓尺寸只需通過配方設置即可更改，因此更改晶圓尺寸非常容易。

目的

  • 離子注入剝離工藝（1 x 10 16原子/cm 2或更多）和前端工藝中的聚合物去除

  • 需要CF4添加工藝的晶圓工藝（電子元件/LED）

  • 芯片尺寸封裝和BUMP工藝

  • CCD彩色濾光片制造工藝

規(guī)格

模型兼容晶圓尺寸
Luminous NA-8000100毫米、125毫米、150毫米和200毫米
Luminous NA-1300200毫米和300毫米


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